窒化ケイ素研磨リング

窒化ケイ素研磨媒体リングは、高純度窒化ケイ素（Si3N4）セラミックスで作られており、超高硬度（Hv≧1500）と優れた耐摩耗性を備えているため、高精度研磨および研磨プロセスに適しています。

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窒化ケイ素研削材リング

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窒化ケイ素研磨媒体リングは、高純度窒化ケイ素（Si3N4）セラミックス製で、超高硬度（Hv ≥ 1500）と優れた耐摩耗性を備え、高精度研磨プロセスに適しています。従来のジルコニアまたは鋼球媒体と比較して、低摩耗性と無公害という特性により、研磨効率を大幅に向上させながら、材料の純度を確保でき、特にリチウム電池材料、電子セラミックス、医薬品粉末などの超微細研磨ニーズの高い分野に適しています。

本製品は、優れた耐衝撃性と化学的安定性、耐酸アルカリ腐食性を備えており、高温または過酷な環境下で長期間使用できます。高い球状度と精度の高いサイズにより、研磨の均一性を確保し、製品のバッチ差を低減します。

新エネルギー、半導体、精密セラミックスなどの業界で広く使用されており、効率的でクリーンな生産を目指す理想的な研磨ソリューションです。

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